Международный вебинар, посвященный исследованию вероятностных рисков, связанных с чистотой поверхности печатного узла

Дата проведения

28 апреля 2022 года

zestron raw-480.jpg28 апреля 2022 года ООО «Остек-Интегра» приглашает всех желающих принять участие в вебинаре, организованном совместно с Dr. O.K. Wack Chemie GmbH, ведущим мировым производителем жидкостей для отмывки электроники под брендами Zestron® и Vigon®.

Более 5000 комбинаций различных факторов могут влиять на качество чистоты поверхности печатного узла и работу всего электронного изделия в целом. Поэтому чистота поверхности печатного узла — ключевой фактор, влияющий на его надежность и корректную работоспособность.

В ходе вебинара будут рассмотрены факторы, влияющие на принятие решения к отмывке печатных узлов, а также примеры возможных загрязнений и их последствий.

Докладчики

Dr. Markus Meier , Senior Technology Analyst, ZESTRON Europe a business division of Dr. O.K. Wack Chemie GmbH

Вебинар пройдет c 11:00 до 12:00 (мск). В ходе мероприятия вы сможете задать интересующие вас вопросы в режиме реального времени.

Регистрация

Для участия в вебинаре зарегистрируйтесь по ссылке https://events.webinar.ru/27458241/10282591 .

Для уточнения информации о вебинаре обращайтесь по e-mail: materials@ostec-group.ru